High-NA EUV 光刻機

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  三星被曝最快 2024 年底前開始安裝首臺 High-NA EUV 光刻機

  三星將于 2024 年第 4 季度至 2025 年第 1 季度期間，安裝首臺來自 ASML 的 High-NA EUV 光刻機，并預(yù)估 2025 年年中投入使用。

  潮玩君

  2024年8月16日