近日，BusinessKorea報(bào)道，由于2nm制程量產(chǎn)良率問題，三星電子決定暫停其在 Texas（泰勒）工廠的人員部署，并撤回部分工作人員回國。這一舉措不僅凸顯了三星在先進(jìn)制程工藝上所面臨的挑戰(zhàn)，也引發(fā)了外界對(duì)其競(jìng)爭(zhēng)力的擔(dān)憂。
據(jù)悉，三星電子在2nm制程上的良率目前低于50%，尤其是在3nm以下工藝方面，與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電相比存在明顯差距。據(jù)數(shù)據(jù)顯示，臺(tái)積電的先進(jìn)工藝良率約為60-70%，這使得臺(tái)積電在市場(chǎng)份額上領(lǐng)先于三星，差距高達(dá)50.8個(gè)百分點(diǎn)（臺(tái)積電Q2占比62.3%，而三星僅為11.5%）。
業(yè)內(nèi)人士透露，三星電子在GAA（Gate-All-Around）工藝上的良率僅為10-20%，這遠(yuǎn)低于訂單和大規(guī)模生產(chǎn)所需的良率標(biāo)準(zhǔn)。正是這一良率問題，迫使三星重新考慮其戰(zhàn)略，并決定從泰勒工廠撤回工作人員。
與此同時(shí)，三星電子已簽署了一份初步協(xié)議，希望通過美國CHIPS法案獲得最高9萬億韓元（約合478.26億元人民幣）的補(bǔ)貼。然而，這一補(bǔ)貼的獲得有一個(gè)前提，那就是工廠必須滿足美國的相關(guān)條件。在當(dāng)前良率問題的背景下，三星能否順利拿到這一補(bǔ)貼，成為了外界關(guān)注的焦點(diǎn)。
業(yè)內(nèi)專家認(rèn)為，三星電子在晶圓代工領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)力下滑，其內(nèi)部官僚主義、決策制定流程緩慢以及低薪酬是主要原因。一位半導(dǎo)體教授指出，與20-30年前相比，三星在投資時(shí)機(jī)上的延后，也暴露出管理層當(dāng)前現(xiàn)實(shí)缺乏充分認(rèn)識(shí)。要想重振競(jìng)爭(zhēng)力，三星電子需要對(duì)管理系統(tǒng)進(jìn)行根本性的改革。
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