上海微電子今日交付中國首臺光刻機

上海微電子舉行首臺2 5D 3D先進封裝光刻機發(fā)運儀式,這標志著中國首臺2 5D 3D先進封裝光刻機正式交付客戶

2月7日,上海微電子舉行首臺2.5D/3D先進封裝光刻機發(fā)運儀式,這標志著中國首臺2.5D/3D先進封裝光刻機正式交付客戶。

去年9月18日,上海微電子舉行了新產品發(fā)布會,宣布推出新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機。上海微電子曾表示,當時已與多家客戶達成新一代先進封裝光刻機銷售協議,首臺將于年內交付。

據悉,當時推出的新品光刻機主要應用于高密度異構集成領域,具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光視場等特點,可幫助晶圓級先進封裝企業(yè)實現多芯片高密度互連封裝技術的應用,滿足異構集成超大芯片封裝尺寸的應用需求,同時將助力封裝測試廠商提升工藝水平、開拓新的工藝,在封裝測試領域共同為中國集成電路產業(yè)的發(fā)展做出更多的貢獻。

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